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用于直接控制基材电压和离子能量的不对称偏压波形发生器
用于直接控制基材电压和离子能量的不对称偏压波形发生器
eVoS™ LE 是一种不对称偏压波形发生器，设计用于直接控制等离子体类蚀刻和沉积工艺中的晶圆表面电压和相应的离子能分布 (IED)。eVoS 系统由双向电压供电和独立电流源组成，可产生和控制晶圆表面电位。eVoS 提供不对称输出，可避免正弦曲线射频偏压应用固有的晶圆偏置局限和限制。快速数字式计量和新型的控制算法能够产生接近单能的 IED。使用附加参数，可以自定义晶圆表面电压的平均和时间变化因素，产生所需要的离子能分布。
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