香港LAB-KITS 曝光系统SUNY-ZBG320

香港LAB-KITS

多氯联苯曝光机

1. 用途：线曝光处理，耐焊接及印刷电路板生产过程中的性墨水图
2。 结构特点：大面积有效曝光区域，支持更多的 PCBs 进行曝光操作；先进的真空泵，使 PCBs 更贴近薄膜；曝光机配有薄膜共通光源，方便薄膜瞄孔操作；
3. 控制系统：高性能 ARM 嵌入式处理器 + 嵌入式操作系统，人机界面：大屏幕彩色液晶屏 + 触摸屏
4. 在投标现场设置曝光机控制系统，“管回收时间、曝光时间、预期寿命统计、恢复出厂设置” 的曝光机功能必须在投标控制系统中显示，而未来交付设备控制系统必须符合 投标现场的控制系统;
5. 功能特点：“强制关闭” 功能，避免长时间无效光管；“光时间统计” 功能记录总时间以减轻和查看管使用寿命；“开口盖检测” 功能，避免事故暴露，保护操作人员的安全；软件” 启用控制” 功能，避免灯曝光频繁，延长灯的使用寿命；
6. 有效曝光面积：900 毫米 × 680 毫米
7. 曝光灯：3KW 高级专用曝光灯
8. 有效波长: 420-640 纳米
9. 真空泵：真空度 99.5%，功率 200 瓦
10. 曝光时间；可设定
十至六百秒。 电源: 220V/AC 50 赫兹 3.2 千瓦
12. 整体尺寸：千毫米 × 八百六十毫米 × 九百五十毫米
13. 重量：130 公斤。

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