美国Sutter
BV-10 优雅且易于使用，可对 0.1 至 100 µm 的微量移液器吸头进行精确斜切。独特的磨盘驱动系统无振动，可更好地控制斜切过程。使用 Brown 和 Flaming，Science，1974 年 8 月，第 185.
细胞内记录电极可以从斜切中受益，因为：
这极大地促进了穿透和保持非常小的或困难的细胞。显微注射针头也受益于斜切，它可以促进以小的损伤进入细胞，同时增强材料通过针头的流动。
基本的斜切系统由一个固定的基座组成，该基座具有半波 (250 nm) 的光学平面，表面安装在一个沉重的基板上。这用作磨料涂层玻璃磨盘的轴承，该磨盘也是平到半波的。平面磨盘通过磁场耦合到低振动、低速电机，以提供无摆动的平面磨削表面。磨料板采用专有工艺制造，可确保一致的磨料涂层。
一个 2 轴显微操作器将移液器固定在斜面上，并允许受控推进到研磨表面上。斜角和推进速度可调。带鹅颈管的 LED 灯通过为研磨板和移液管提供锐利的照明来增强斜切操作。
基本系统由您选择的两个研磨板、一个带支架的灯芯（用于湿斜切）、底座油、脱脂液和手册完成。
有两个选项可用于监控斜切过程，一个 40X 立体显微镜和一个电极阻抗计. 根据您的研究应用，可能需要这些选项中的一个或两个。对于所有微量移液器应用，摆动安装式显微镜增强了您对移液器前进到研磨板上的控制，并允许查看斜切操作（除了非常大的吸头外，示波器分辨率不足以查看实际斜切）。对于微电极应用，阻抗计用于监测斜切操作期间的尖端电阻。该仪表采用模拟设计，提供三个电阻范围（0-10、0-100、0-500 MOhm）。以 12 Hz 的频率进行测量，以大限度地减少对测量阻抗的电容贡献，并提供接近真实的直流电阻值。快速滚降用于减少 50/60 Hz 干扰，
常见应用 BV-10
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